Objectius de sputtering de titanisón els materials clau en la tecnologia de deposició física de vapor (PVD), especialment en el procés de recobriment per polverització. Estan fets de matèries primeres de titani i s'utilitzen àmpliament en indústries d'alta-tecnologia, com ara l'electrònica, la tecnologia de la informació, els camps decoratius i la fabricació de vidre per a automòbils. En aquestes aplicacions, els objectius de titani s'apliquen específicament en el recobriment de circuits integrats, el recobriment de superfícies de panells de pantalla plana o com a capes de recobriment per a vidre decoratiu i funcional.
Els requisits bàsics de rendiment dels objectius de polverització de titani
El rendiment dels materials objectiu de titani determina directament la qualitat de les pel·lícules dipositades i el rendiment dels dispositius finals.
Puresa: La puresa és un dels indicadors de rendiment més crítics del material objectiu i afecta significativament el rendiment de les pel·lícules. Els requisits de puresa varien molt segons les diferents aplicacions. La tendència a la fabricació de xips és que les hòsties de silici són cada cop més grans i les línies de circuit es fan més primes. La mida de les hòsties de silici s'ha millorat a 12 polzades i l'amplada del cablejat ha disminuït gradualment fins a 0,25 μm, 0,18 μm i 0,13 μm. Per tant, els requisits de puresa del material bàsic, el material objectiu de titani, s'han tornat cada cop més estrictes. Per al procés de 0,35 μm, cal un material objectiu amb una puresa del 99,995%, i per al procés de 0,18 μm, un material objectiu amb una puresa del 99,999% o fins i tot una puresa ultra-.
Contingut d'impuresa: Les impureses en el sòlid del material objectiu i l'oxigen i el vapor d'aigua adsorbits als porus interns són les principals fonts de contaminació de les pel·lícules dipositades. Les diferents aplicacions tenen límits extremadament estrictes sobre continguts específics d'impureses. Per exemple, l'alumini pur i els aliatges d'alumini utilitzats a la indústria dels semiconductors tenen requisits especials extremadament estrictes per al contingut de metalls alcalins i el contingut d'elements radioactius.
Densitat: L'alta densitat és crucial per reduir els porus interns del material objectiu i millorar el rendiment de les pel·lícules polveritzades. La densitat del material objectiu no només afecta la velocitat de pulverització, sinó que també influeix significativament en les propietats elèctriques (com la resistivitat) i les propietats òptiques de les pel·lícules. En termes generals, com més gran sigui la densitat, millor serà el rendiment de la pel·lícula. Al mateix temps, l'alta densitat i alta resistència també poden permetre que el material objectiu suporti millor l'estrès tèrmic durant el procés de pulverització, reduint el risc d'esquerdes. Per tant, la densitat és un indicador clau de rendiment per mesurar la qualitat del material objectiu.
La mida del gra i la distribució: La mida del gra del material objectiu oscil·la entre micròmetres i mil·límetres. L'eficàcia de polverització dels objectius-de gra fi és superior a la dels objectius de-gras gruixuts. És més probable que els materials objectiu amb una mida de gra uniforme produeixin pel·lícules dipositades de gruix uniforme, la qual cosa és una garantia de rendiment clau per als processos de recobriment de pantalla plana de gran-àrea.
Aplicacions dels materials diana de titani
Indústria de semiconductors: els materials objectiu de titani es poden utilitzar per fabricar components electrònics, com ara fotodíodes, fototransistors, fotoreceptors i transmissors, etc.
Camp optoelectrònic: els materials diana de titani es poden utilitzar per fabricar dispositius optoelectrònics, com ara LED i cèl·lules solars, etc.
Camp de materials magnètics: els materials diana de titani es poden utilitzar per fabricar discos durs i targetes magnètiques, etc.
Altres camps d'alta-tecnologia: els materials objectiu de titani també s'utilitzen àmpliament en aliatges d'alta-temperatura, materials conductors, catalitzadors químics i equips mèdics, etc.
Aquests camps no només requereixen materials amb alta resistència i resistència a la corrosió, sinó també propietats químiques estables i biocompatibilitat. Els materials diana de titani compleixen amb precisió aquests requisits i s'han convertit en un material important en aquests camps.
Baoji Yibaite New Materials Technology Co., Ltd- Proveïdor de materials de destinació de titani a Baoji, Xina